第697章 直奔浸润式光刻-1991从芯开始TXT下载

    

    　　国外同行们是什么表情，苏远山现在看不到，但他能猜到。

    长期以来，国内都是被“封锁”的目标和对象。远的八筒不说了，近的WA还有无数条款列着呢……西方那边，是出现一门新技术，就加一条。然后国内跟上一门，就减一条。生怕欺负你欺负得不够完美。

    现在，猛地出现了反过来封锁的技术……也不知道要惊掉多少人的下巴。

    办公室里众人都是和八筒以及WA做过“斗智斗勇”的人，自然知道被封锁的滋味是什么，在一阵笑声中，郑振川望向苏远山：“小山，你说的有条件一年禁售期是什么意思？”

    “就是，我们不谈禁售，全面开放，按照订单来。但实际上，国外订单要排到一年之后。”

    “国外订单，也包括棒国那边SYD的订单？”郑振川笑吟吟地问道。

    “……当然不是！”苏远山给吓了一跳：“郑叔别吓我，SYD那边是我们抢占DRAM颗粒的关键布局。就指望着在这两年把产能拉上去，两年后来个大爆发呢……”

    众人便哈哈大笑起来。

    郑振川摸着头发，一边笑一边摇头：“其实不用你说一年，我们目前的产能大概也只能满足德远和华晶的需求，要到一年之后才能接海外订单。”

    “而且这期间，还需要你们和华晶多多协助，多多支持。”

    “嗯，没事。只要稼动率能够上去，今后就算等，我们也要等到你们拿出Arf来！”

    稼动率，是工业制造中的一个名词，可以简单理解为某个设备在所能提供的时间内为了创造价值而占用的时间所占的比重。

    尼康佳能的光刻机，目前虽然在光源以及解决方案上跑得很快，已经完成了ArF光刻机，也就是DUV光刻机的研制。但买他们两家的光刻机，真的有时候要看运气。

    光刻机不是流水线产品，想做到每一台的效率和稳定性都达到最高，显然是不可能的。但问题就在于，尼康的光刻机，同型号的差异实在有点大。

    最优秀的光刻机，稼动率能够到90%，但最差的，或许就只有50，60%。

    目前，获得了来自飞利浦和intel大力支援的ASML，虽然还是在制造Krf光刻机，但他们光刻机的稳定性就大大超过了尼康佳能，一条生产线的稼动率甚至可以长期稳定在90%以上。

    至于鸿芯这边，根据统计，平均的稼动率是在70%到80%左右浮动，和尼康佳能差不多，还稍逊一点。

    “只有慢慢来，我们现在只有尽量优化工艺流程，提高零部件标准，然后再细细打磨技术。”苏远山这边提到稼动率，郑振川也一阵烦恼。双工件台是好，但如果无法通过长时间的流水线生产的验证，那也仅仅只是弥补缺陷罢了。

    “嗯，没事。”苏远山点点头：“工艺打磨可以慢慢来。我们本身就落后几十年，现在是强行追上来的，有缺陷和不稳定很正常，慢慢吸取教训，慢慢进步就是了。但……研发不能慢下来。”

    “我希望你们直接就与林，赵团队合作，直接跳过单纯的Arf光刻机……或者说，直接协同研发跨越193nm的光刻机！”

    他话音落下，这边曲慧和沈浩然马上便是一惊！

    “小山，你的意思是林博士他们解决了下一代光源了？”曲慧由于长年累月呆在鸿芯这边，早已经对光刻机技术和发展了如指掌，知道目前国内虽然由赵凯东那边实现了Arf光源的突破，但Arf在国外可是好几年前就已经突破了……而且人家早就意识到了193nm的Arf激光将会是光刻机发展的一个重要节点——这也是国产光刻机追上世界的重要机会。

    但人家意识得早，就意味着布局得早。尼康早就拉了一帮人在搞157nm的F2准分子光源不说，老美那边更是牛逼，国家能源局亲自下场，组建了一支豪华的阵容直接瞄准了最低可到10nm波长的极紫外光源EUV。

    而国内，则压根没有那个精力去搞。

    现在苏远山说的不是直接搞光源，而是直接搞光刻机……

    好家伙，意思就是那边的团队搞定了光源？

    当然，郑振川不向曲慧他们这样一惊一乍的，作为鸿芯的负责人，他自然知道林本坚他们的方案，并且自己这边也给出了合作计划。

    但苏远山现在说到直接就进行光刻机的研究……

    这……是不是走得太快了一点？

    所以，郑振川也疑惑地望向苏远山。

    面对众人疑惑的眼神，苏远山轻轻地吸了口气。

    之所以让郑振川直接就上马浸润式光刻机，自然还是因为他对林本坚有着绝对的信心。

    林本坚是工程师，而且还是那种按部就班的、极为老派和严谨的工程师。他既然能提出浸润式方案，那脑海中就必定有一个大体的解决方案。

    而苏远山上次从HK回来时就路过了沪市，专门去看了林本坚罗列出的一个个要解决的技术问题和难点。按照苏远山对工程和光学的浅薄认识来看，这些技术，都不是超越现代工程的技术。

    那么这就意味着，浸润式方案，也会如同前世一样，或许两年就能搞出来——把时间再算浮一点，那也就是三年！

    三年！

    如果郑振川和林本坚的团队一同协作，一开始就直奔浸润式DUV的研发，那么或许最多三到五年……鸿芯就能推出世界上第一台浸润式DUV光刻机。

    想到2003年，自己就能拿到可以卖20年都不会落伍的DUV，苏远山就感觉到有点燥热起来。

    那该是多么伟大的一次超越啊……

    “不，林，赵团队没有解决光源，但他们有解决镜头的方案。可以实现超越193nm的效果。”苏远山看着曲慧和沈浩然，解释道：“如果郑叔这边和那边直接配合启动该方案的光刻机的研发，那么……或许鸿芯就可能是第一家率先打破193nm的光刻机企业。”

    “到时候，别说ASML之流，就算尼康佳能，他们也只能跪地求饶。”

    “而一旦我们有了话语权，我们再来拉着他们开展对下一代光源、譬如EUV的研究……那么主动权就在我们手里了。”

    

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